题材 / 半导体设备材料零部件国产替代
去日化 · 半导体国产替代趋势
天风电子 · 日本厂商高份额环节 → 国内厂商承接替代空间（★为高弹性重点环节）| 品类 | 细分领域 | 日本主要厂商 | 日本份额 | 国内主要厂商（代码 · 现价 · 涨跌幅） | 市场空间 亿$ | 替代空间 亿$ |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 设备 | 涂胶显影设备 | TEL、DNS | 95% | 15 | 15 | |
| 探针台 | TEL、ACCRETECH | 80% | 7 | 5.6 | ||
| 测试机 | Advantest | 60% | 25 | 15 | ||
| 热处理设备 | TEL、Kokusuai | 60% | 20 | 12 | ||
| 刻蚀机 | TEL | 30% | 110 | 33 | ||
| 清洗机 | DNS、TEL | 30% | 30 | 9 | ||
| CVD设备 | TEL | 20% | 60 | 12 | ||
| 检测量测 | Hitachi | 15% | 65 | 11 | ||
| 材料 | 光刻胶 | 信越化学、JSR、TOK | 85% | 15 | 12 | |
| 光刻胶配套试剂 | 日本应化、Fujifilm、Tokuyama | 85% | 格林达60393134.00+3.16%江化微60307831.45+1.42% | 7 | 7 | |
| 第三方掩膜版 | Toppan、DNP | 60% | 龙图光罩—路维光电68840164.18-2.95%清溢光电68813836.87+2.85% | 10 | 6 | |
| 硅片 | 信越化学、SUMCO | 40% | 40 | 16 | ||
| 抛光液 | Fujifilm、Hitachi | 25% | 8 | 2 | ||
| 湿电子化学品 | 三菱化学、住友化学、关东化学 | 30% | 10 | 3 | ||
| 靶材 | 日矿金属、东曹 | 40% | 8 | 3.2 | ||
| 零部件 | 陶瓷结构件 | NGK、NTK、ToTo、Shinko | 90% | 20 | 18 | |
| 传输天车 | 大福、村田 | 80% | 新松30002412.96-0.61%华芯装备— | 3 | 2.4 | |
| 石英结构件 | Ferrotec | 60% | 菲利华30039597.46+2.59%石英股份60368848.32+1.30% | 10 | 6 | |
| 气体流量计 | Horiba | 60% | 4 | 2.4 | ||
| 分子泵 | 岛津、Ebara | 40% | 10 | 4 | ||
| 气动阀 | Fujikin | 40% | 3 | 1.2 | ||
| 气体管路 | Fujikin | 30% | 5 | 1.5 |